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磁力攪拌器用于氟硅烷涂層的自清潔性分析

返回列表 來源:未知 發布日期:2021-06-08 09:09【

    對于超疏水自清潔或超親水自清潔的研 究頗多,而對于既具有超疏水性又具有超親水性的 材料研究鮮少。WANG 發現納米 TiO2薄膜在無 紫外光照射下水接觸角為幾十度,經紫外光照射一段時間后接觸角下降至接近 0°,由疏水轉變為超 親水。利用納米TiO2在紫外線條件下由疏水轉 變為親水的特性,制備了超疏水和超親水相結合的納 米TiO2涂層,并研究各因素對自清潔性能的影響。上海中晨數字技術設備有限公司接觸角測量 儀,上海嘉鵬科技有限公司 ZF 型紫外透射反射分 析儀,鞏義市予華儀器有限責任公司 82-5 型磁力 攪拌器,天津市泰斯特儀器有限公司 101-1A 型電 熱鼓風干燥箱。

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    涂層的接 觸角下降程度相似,而氟硅烷質量分數為 0.25%的 涂層接觸角下降率較大,所以在一定范圍內氟硅烷 含量越小,其自清潔性越好;在相同時間內,254 nm 紫外波長照射下的水接觸角比 365 nm 波長下的水 接觸角變化大。因此,在 254 nm 紫外波長照射條 件下,氟硅烷質量分數為0.25%的納米TiO2/氟硅烷 涂層的自清潔性較好。制備了不同含量氟硅烷的納米 TiO2/氟硅烷 涂層在紫外光照射下都能由超疏水轉變為超親水, 在一定范圍內氟硅烷含量越小,其自清潔性越好, 此納米TiO2/氟硅烷涂層具有優良的自清潔性能。經正交試驗極差計算分析得出,在 254 nm 紫外波長光照下,對自清潔性影響程度為紫外光照 時間>基材>納米 TiO2含量;在 365 nm 紫外波長條 件下對自清潔性影響程度為基材>紫外光照時間> 納米TiO2含量。




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